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布线图金融界2024年3月2日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“半导体装置“的专利，公开号CN117637681A,申请日期为2023年8月。专利摘要显示，一种半导体装置可包括衬底上的下金属布线、下金属布线上的第一上层间绝缘层、第一上层间绝缘层中的包括第一上后面会介绍。

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